苹果将为 iPhone 采用屏下 Touch ID 和 Face ID 的消息已经不是第一次听到了。最近，苹果通过美国专利商标局获得了一项新专利，可以用于屏下 Face ID 和 Touch ID 未来有望能看到苹果能发布没有刘海屏的真全面屏。
专利文档显示，苹果考虑将 TouchID 和 Face ID 深度集成到屏幕内，
光学成像阵列位于屏幕后面，可定向接收通过屏幕传来的光线，与屏幕发光的方向相反。
介绍中提到的光学成像阵列，适用于成像、感测或数据聚合等，包括但不限于环境光感测、近距、深度感应、结构光、光通信、生物特征成像（例如指纹成像、虹膜成像、面部识别等）。
这项专利意味着，屏幕可能会有一部分”通过不透明的背板定义的成像孔”，苹果称之为“光圈”。
为了能够正常使用 Touch ID 和 Face ID，这块“光圈”区域的屏幕像素密度比其余部分要低一些。
还有一种可能，就是在使用 Touch ID 和 Face ID 时，这块“光圈”区域的像素才会降低，在不使用时，像素密度和其它区域一致。
在这份 14000 字的专利报告中，苹果还提及了此专利也可用于 MacBook 上。
不过，苹果已经拥有不少屏下 Touch ID 和 Face ID 识别专利，将来会采用哪一种尚未可知。
苹果计划于今年 9 月 24 日发布新 iPhone，依然会采用刘海屏和 Face ID 单生物识别方案，短期内是看不到同时采用 Touch ID 和 Face ID 识别方案的新机发布了，不过有消息称 iPhone SE 3 Plus 可能会采用电源指纹识别方案。
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